我国专利制度的4个特征和2种专利审查流程

我国专利制度的4个特征三种专利类型，两种审查方式:我国对发明、实用新型和外观设计三种类型的发明创造都授予专利权。对于实用新型和外观设计采用初步审查制，对于发明采用实质审查制。

对于多个申请人针对同一发明创造提出专利申请时，我们采用先申请制，精确到“日”。

专利申请的授权条件包括形式条件和实质条件。形式条件包括：

(1）申请文件齐备，填写符合要求;

（2）申请人身份合法，证明文件齐备;

（3）缴纳申请费用。实际条件包括：

(1）发明专利和实用新型专利需要具有新颖性、创造性和实用性;

（2）充分公开，专利说明书对发明创造的说明清楚完整，主题明确，用词准确，描述全面;

（3）限定保护范围，权利要求书应该清楚、明确、简洁地限定专利要求保护的范围;

（4）符合授权条件的外观设计应该不属于现有设计，也需要和现有设计的特征组合具有明显区别。

我国的专利权保护采用行政保护和司法保护并行的双轨制。专利行政部门主要包括：国家知识产权局及其部分省份设立的专利代办处，国防专利局和地方管理专利工作的部门。处理专利纠纷的司法部门主要是各省、自治区直辖市人民政府所在地的中级人民法院。

我国2种专利审查流程对于发明专利申请采用“早期公开、延迟审查”的制度。国家知识产权局受理申请后，经过初步审查、18个月后公布申请，申请人在规定时间（3年）内提出实质审查请求，国家知识产权局进行实质审查，如果没有发现驳回理由，则颁发发明专利证书，进行授权公告。

对于实用新型和外观设计专利申请不进行实质审查，只包括受理申请、初步审查和授权公告三个步骤。

除了以上常规环节外，专利审查过程中还包括：复审程序、专利权无效宣告程序、撤回程序、保密审查程序、中止程序权利恢复程序、专利行政复议程序等环节。